Толщина алмазного слоя: h (Dia) 0,3 мм
Шероховатость: Ra 1 мкм
Толщина кремниевой подложки: h (Si) 0,6 мм
Диаметр: d 76 мм
Алмазные пластины используются в качестве теплоотводов в мощных полупроводниковых приборах
Характеристики
/ 07

Поликристаллическая пластина на кремнии

рост характеристик относительно текущих пиковых значений аппаратуры для спутниковой, наземной связи и радиолокации
<10%
Оптоэлектроника, лазерные диоды и светодиодные матрицы
Светотехника
Инверторы, блоки питания для оборудования и электромобилей, серверов
Силовая электроника
Радио-модули 5G, радары, навигационные системы, спутниковая, наземная связь
СВЧ электроника
Преимущества
Области применения
Поликристаллическая пластина на кремнии
d 76 мм
h (Si) 0,6 мм
h (Dia) 0,3 мм
Ra 1 мкм